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韩研究所:韩国DRAM技术领先中国5年,NAND闪存领先2年

来源:网络  时间:2022-05-31 17:27  编辑:柳暮雪   阅读量:8071   
韩研究所:韩国DRAM技术领先中国5年,NAND闪存领先2年

据BusinessKorea报道,韩国进出口银行海外经济研究所估计,韩国在DRAM技术方面领先中国5年,在NAND闪存方面领先中国2年。

该研究机构5月30日表示,中国DRAM厂商长信存储器今年正在推进第二代10nm DRAM的量产。另一方面,三星电子和SK海力士正计划在今年年底或明年量产第五代10nm DRAM (1b或12 nm至13 nm)。考虑到每一代人的技术差距大约是2到2年半,两国的技术差距超过5年。

特别是三星和SK海力士已经引进了用于超微制造工艺的极紫外设备,或者正在计划引进。然而,由于中国公司很难引进EUV的设备,许多专家认为中国缩小与南韩的技术差距并不容易。

中国芯片厂商的良品率也很低。OERI分析称,2019年开始量产第一代10nm DRAM的长信存储,即使两年过去了,其良品率仍在75%左右挣扎。据了解,其第二代DRAM的良品率也在40%左右。分析师表示,截至去年年底,长信存储的DRAM市场份额不到1%,而且不会大幅反弹。

IT之家了解到,在NAND闪存方面,该机构估计中国和韩国的技术差距约为两年。中国存储半导体公司长江存储于2021年8月开始量产第六代3D NAND闪存。三星和SK海力士从2019年开始量产这种闪存。韩国公司计划从今年年底到明年年初量产超过200层的NAND闪存,但长江存储预计要到2024年才能实现。

不过一个变数是,苹果目前正在考虑在iPhone中使用长江存储的NAND闪存。在这种情况下,预计长江存储将通过扩大投资来大力追赶韩国芯片厂商。尤其是NAND闪存是一个成长中的行业,不同于DRAM行业,所以变数很多。专家表示,如果五六家NAND闪存公司迅速扩大产能,就会出现价格竞争,这可能会改变NAND闪存市场份额的排名。

此外,该机构还表示,韩国在铸造技术方面领先中国约5年。目前,韩国三星电子和中国台湾省TSMC正在大规模生产4-5纳米芯片。另一方面,中国的SMIC处于14纳米的水平,落后两到三代。

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